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LPCVD低壓化學氣相淀積設(shè)備

LPCVD是用加熱的方式在低壓條件下使氣態(tài)化合物在基片表面反應(yīng)并淀積形成穩(wěn)定固定薄膜。由于工作壓力低，氣體分子的平均自由程和擴散系數(shù)大，故可采用密集裝片方式來提高生產(chǎn)率，并在襯底表面獲得均勻性良好的薄膜淀積層。LPCVD用于淀積Poly-Si、SiaN4、SiO2、磷硅玻璃、硼磷硅玻璃、非晶硅及難熔金屬硅化合物等多種薄膜。廣泛應(yīng)用于半導(dǎo)體集成電路、電力電子、光電子及MEMS等行業(yè)的生產(chǎn)工藝中。

關(guān)鍵詞：半導(dǎo)體 光伏 工業(yè)爐

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產(chǎn)品描述

LPCVD是用加熱的方式在低壓條件下使氣態(tài)化合物在基片表面反應(yīng)并淀積形成穩(wěn)定固定薄膜。由于工作壓力低，氣體分子的平均自由程和擴散系數(shù)大，故可采用密集裝片方式來提高生產(chǎn)率，并在襯底表面獲得均勻性良好的薄膜淀積層。LPCVD用于淀積Poly-Si、SiaN4、SiO2、磷硅玻璃、硼磷硅玻璃、非晶硅及難熔金屬硅化合物等多種薄膜。廣泛應(yīng)用于半導(dǎo)體集成電路、電力電子、光電子及MEMS等行業(yè)的生產(chǎn)工藝中。

設(shè)備主要特點

對工藝時間、溫度、氣體流量、閥門動作、反應(yīng)室壓力實現(xiàn)自動控制。采用進口壓力控制系統(tǒng),閉環(huán)控制，穩(wěn)定性強。
采用進口耐腐蝕不銹鋼管件、閥門，確保氣路氣密性。◆具有完善的報警功能及安全互鎖裝置。
◆具有良好的人機界面，靈活的工藝性能。

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