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ALD原子層沉積設(shè)備
太陽能ALD原子層沉積是通過將氣相前軀體TMA和H20(或TMA和O3)脈沖交替地通入反應(yīng)腔室內(nèi)并在沉積基體上化學(xué)吸附反應(yīng)生成沉積膜AL2O3的一種設(shè)備，主要應(yīng)用到光伏PERC、TOPCON等新型工藝上，用于提高太陽能電池片的轉(zhuǎn)換效率。
關(guān)鍵詞：半導(dǎo)體 光伏 工業(yè)爐
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產(chǎn)品介紹
太陽能ALD原子層沉積是通過將氣相前軀體TMA和H20(或TMA和O3 )脈沖交替地通入反應(yīng)腔室內(nèi)并在沉積基體上化學(xué)吸附反應(yīng)生成沉積膜AL2O3的一種設(shè)備，主要應(yīng)用到光伏PERC、TOPCON等新型工藝上，用于提高太陽能電池片的轉(zhuǎn)換效率。
ALD技術(shù)的主要優(yōu)勢:
1.前軀體是飽和化學(xué)吸附，保證生成大面積均勻的薄膜。
2.可以沉積多組份納米膜層和混合氧化物
3.薄膜生成可在低溫（室溫到300度）下進(jìn)行。
4.可以通過控制反應(yīng)周期數(shù)簡單精確的控制薄膜的厚度，形成達(dá)到原子層厚度精度的薄膜。
5.可廣泛適用于各種形狀的基體。
ALD3.0 ALD在高效電池應(yīng)用中的優(yōu)勢
ALD3. 技術(shù)在高效電池的產(chǎn)業(yè)化應(yīng)用
原子層級(jí)薄膜沉積技術(shù)非常適合高效電池鈍化應(yīng)用
批量型ALD設(shè)備的成熟大大降低了生產(chǎn)成本
對(duì)新型電池技術(shù)適應(yīng)性強(qiáng)
ALD新薄膜材料開發(fā)活躍
工藝氣體進(jìn)腔體排出后進(jìn)預(yù)處理裝置，此裝置有效處理未反應(yīng)完TMA,防止粉塵顆粒污染真空泵，提升泵的使用壽命，減少安全隱患，保證開機(jī)率。
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